【转载】重磅!日本成功开发1.4nm“光刻机”!

近日,日本印刷株式会社(DNP)对外公布了一则重磅消息:公司成功研发出电路线宽达到 10 纳米的 NIL 纳米压印技术,此技术能够应用于相当于 1.4 纳米等级的逻辑半导体电路图形化领域。

在当下科技飞速发展的时代,智能手机、数据中心等终端设备对先进逻辑芯片的微型化需求愈发迫切。DNP 此次推出的这项技术,正是精准契合了这一市场需求。目前,该技术已正式启动客户评估流程,并计划于 2027 年实现量产。不仅如此,DNP 还制定了雄心勃勃的营收目标,力争在 2030 财年将纳米压印相关业务的营收提升至 40 亿日元,折合人民币约 1.8 亿元。

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2027年量产上车,光刻霸权或将改朝换代!

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